电子行业市场前景及投资研究报告：光刻，自主可控核心环节，国产化迫在眉睫.pdf

证券研究报告|行业专题研究

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20250422

年月日

电子

光刻：自主可控核心环节，迫在眉睫

分辨率、套刻精度、产能为光刻机核心参数。光刻工艺是芯片制造流增持（维持）

程中技术难度最大、成本最高、周期最长的环节，直接决定了芯片的最

小线宽，定义了半导体器件的特征尺寸，先进技术节点的芯片制造需行业走势

要60-90步光刻工艺，光刻成本占比约为30%，耗费时间占比约为40-

50%。光刻中的核心工具包括光掩膜、光刻机和光刻胶，分辨率、套刻电子沪深300

70%

精度、产能为光刻工艺中的关键参数，分辨率是指光刻机能清晰地在

晶圆上投影出的最小特征尺寸，可通过缩短波长、提高数值孔径、降低52%

K1工艺因子提高。套刻精度是曝光显影后存留在光刻胶上的图形（当34%

前层）与晶圆上已有图形（参考层）对准时能容忍的最大误差，可通过16%

设备优化及材料与工艺协同提升，产能为衡量光刻机生产效率的核心-2%

指标，可通过技术改进。

-20%

光源、照明系统、投影物镜为光刻机核心组件。光刻机是芯片制造的2024-042024-082024-122025-04

核心设备，光源系统、照明系统、曝光物镜系统为核心组件，光源为光

刻提供能量，不同制程和芯片类型需匹配特定光源，常见光源包括汞

灯、准分子激光和极紫外光。当前先进光刻机光源供应商为ASML、日

本Gigaphoton公司。照明系统对光源发出的激光进行扩束，确保光照

的均匀性和强度，同时提供特定的照明模式以适应不同的工艺需求。

投影物镜为精准成像的关键，将经过掩模版图案后的衍射光收集并聚

焦至晶圆表面的光刻胶上，全球来看，蔡司为投影物镜镜头龙头供应

商，ASML镜头多由蔡司供应。

全球光刻机市场由ASML、Nikon、佳能垄断。ASML、Nikon、Canon

三大供应商高度垄断全球光刻机市场，根据数据，2024年

全球光刻机市场规模达315亿美元，ASML在高端光刻机绝对领先，佳

能聚焦中低端光刻机领域。根据ASML2024年财报数据，各类光刻机相关研究

收入占比中，EUV机型贡献了39.4%，ArFi机型占比45.8%，从产品1、《电子：周观点：国产算力性价比提升，替代空间广

单价来看，EUV（（NXE）为1.87亿欧元，Arfi产品ASP为0.75亿欧元。阔》2025-04-19

国产高端光刻机亟待突破，产业链齐发力加速替代。国产光刻机空间2、《电子：半导体设备、材料、零部件产业链蓄势乘风

国内需求大于国产供给，据智研咨询数据，2023年我国光刻机产量为起》2025-04-17

124台，需求量为727台，供需关系严重不匹配，本土厂商供给能力3、《电子：原产地规则趋严，国产芯片迎来历史机遇》

有待加强。上海微电子是国内目前唯一前道晶圆制造光刻机整机制造