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X射线能谱、X射线光电子能谱

(XPS)

在通常的光谱方法中，主要研究光和物质的相互作用后产生的光信息。在电子

能谱法中，却采用单色光源(如X射线、紫外光)或电子束去照射样品，使其电子

受到激发而发射出来，然后测量这些这些电子的能量关系及其强度的关系，从中获

得有关信息。根据激发能源的不同，可以得到不同的电子能谱法。用X射线作为激

发源的称X射线光电子能谱法(x-rayphotoctronspectorscopy,XPS)。用紫外光

作为激发源的称为紫外光电子能谱法(UVphotoctronspectorscopy,UPS)o若用电

子束或X射线作为激发源测量样品激发后产生的俄歇电子，成为俄歇电子能谱法

(angerelectronspectroscopy,AES)o近年来，X射线光电子能谱法在化学分析中

得到了广泛的应用，因此它又称为化学分析用电子能谱法(electronspectroscopy

forchemicalanalysis简称为ESCA)。

目前，电子能谱法已在化学、物理、生物等各个领域中得到广泛应用，并逐渐

显示出它在表面分析和结构鉴定中的巨大潜力。

基本原理：光电效应

基本组成：真空室、X射线源、电子能量分析器

♦辅助组成：离子枪

主要功能：成分分析、化学态分析

采谱方法：全谱、高分辨率谱

分析方法：定性分析、定量分析

表面组成：包括表面元素组成、化学价态及其在表层的分布等,后者涉及元素在表面

的横向及纵向(深度)分布;表面结构包括表面原(分)子排列等;表面电子态包括表面

能级性质、表面态密度分布、表面电荷密度分布及能量分布等;表面形貌指“宏观”

外形，当分析的分辨率达到原子级时,可观察到原子排列,这时表面形貌分析和表面

结构分析之间就没有明确的分界。

表面分析技术的特点：是用一个探束(电子、离子、光子或原子等)入射到样品表

而，在两者相互作用时，从样品表面发射及散射电子、离子、中性粒子（原子或分子）

与光子等。检测这些粒子（电子、离子、光子、中性粒子等）的能量、荷质比、粒子

数强度（计数/秒）等,就可以得到样品表面信息。

由于涉及到微观粒子的运动，同时为了防止样品表面被周围气氛沾污,应用于表面分

析技术的仪器必须具有高真空（＜10-4Pa）,有时还必须有超高真空（〈10-7Pa）o

在表面分析中，常把分析区域的横向线度小于100um量级时，称为微区分析。把物

体与真空或气体的界面称为表面,通常研究的是固体表面。表面有时指表面的单原子

层,有时指表面的顶部几个原子层。不同表面分析技术的检测（或称取样）深度不同。

本章所涉及的表面分析技术特点列于表1

表】用千固体催化剂的不同表面分析技术的特点

分析探束检信息深检测限/%横向分辨检测元素损伤

化学信息

技术粒子粒子度/nin〔单层｝力/范围程度

XP5bVe2-5D.1以上3-1DJL.以上组成,电子态弱

UPSbve1-2D.11DJLi以上价带.电子态弱

AESee1-3D.11D2-1DL）以上组成中等

EELSee1~2D.11D2L（以上电子态中等

LEISS11D.3-1D.11D2Li以上组成,结构中等

SIMS11D.3-11。、以下1D2-1