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衬底晶面对MOCVD技术外延生长的影响研究
目录
衬底晶面对MOCVD技术外延生长的影响研究（1）．．．．．．．．．．．．．．．．．3
内容描述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3
1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3
1.2研究目的与内容．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6
1.3研究方法与技术路线．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7
衬底晶体的特性分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8
2.1衬底晶体的结构特点．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9
2.2衬底晶体的物理性质．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
2.3衬底晶体的化学性质．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14
MOCVD技术简介．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16
3.1MOCVD技术原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17
3.2MOCVD技术特点．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18
3.3MOCVD技术应用领域．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18
衬底晶面对MOCVD技术外延生长的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20
4.1衬底晶面粗糙度对外延生长的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23
4.2衬底晶面缺陷对外延生长的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24
4.3衬底晶面掺杂对外延生长的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25
实验方法与结果分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26
5.1实验材料与设备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28
5.2实验设计与步骤．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29
5.3实验结果与讨论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31
结论与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32
6.1研究结论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33
6.2研究不足与局限．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34
6.3未来研究方向．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36
衬底晶面对MOCVD技术外延生长的影响研究（2）．．．．．．．．．．．．．．．．38
一、内容描述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．38
1.1MOCVD技术简介．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．41
1.2外延生长概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．42
1.3衬底晶面对外延生长的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43
二、文献综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．44
2.1国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．45
2.2已有研究成果概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．46
2.3研究空白及发展趋势．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．50
三、理论框架与实验方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．52
四、实验设计与过程．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．52
4.1实验样品准备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．54
4.2实验条件设置．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．
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