飞秒激光直写氟铟基玻璃光波导及其光放大特性研究.pdfVIP

飞秒激光直写氟铟基玻璃光波导及其光放大特性研究

摘要

集成光子器件在光通信、光子计算、集成光芯片以及光电子技术领域有着非常重

要的应用。作为集成光学中最基本的光学元件，光波导可以有效实现光路的高度集成

化，因此高性能光波导的研究具有非常重要的意义。目前，离子注入、化学沉积以及

飞秒激光直写等技术已被广泛应用于高性能光波导的制备。在上述光波导的制备方法

中，飞秒激光刻写光波导技术具有操作简单、刻写灵活、加工材料范围广等优势，被

广泛用于光波导制备。多组分玻璃材料是最早用于飞秒激光制备光波导的基质材料，

基于多组分玻璃材料的光波导已被应用于各种集成光子器件。

本论文选取氟化铟基玻璃作为基底材料，采用飞秒激光直写技术成功在氟化铟基

玻璃中写入光波导，研究了飞秒激光与氟化铟基玻璃材料作用机理，并研究了不同激

光单脉冲能量、不同刻写速度以及不同写入深度等参数对光波导横截面、损耗、近场

模式分布的影响。在此基础上利用飞秒激光直写技术制备了掺铒氟化铟基光波导，并

研究了掺铒氟化铟基光波导放大器在1550nm波段的光发大特性。本论文取得的研究成

果具体如下：

1.使用中心波长为800nm、重复频率为1kHz，脉冲宽度为100fs的飞秒激光通过

单次扫描、多次刻写的方式在氟化铟基玻璃中写入Type-I类光波导，研究了不同激光

单脉冲能量、不同写入深度、不同刻写速度等参数对光波导横截面、损耗、近场模式

分布的影响。当飞秒激光单脉冲能量为1.5-3.5µJ，刻写速度为100-250µm/s时，可以

制备出氟化铟基玻璃光波导。在激光单脉冲能量为3µJ、刻写速度为200µm/s的条件

下制备出近场模式分布清晰且呈高斯型分布的氟化铟基光波导结构。使用端面耦合法

测试光波导最低损耗（1150nm）为0.85dB/cm，使用棱镜耦合法测试得到光波导的折

射率为1.5166，折射率改变量为4.7×10-3。

2.研究了不同飞秒激光单脉冲能量、不同刻写速度以及不同写入深度等参数对掺铒

氟化铟基光波导横截面、损耗、近场模式分布的影响，制备了掺铒氟化铟基光波导放

大器。研究了掺铒氟化铟基光波导的形成范围，确定了当飞秒激光单脉冲能量为3.5µJ、

刻写速度为200µm/s，刻写深度为200µm时得到了导光效果最佳，近场模式分布清晰

且呈高斯型分布的光波导结构，并使用端面耦合法测试了掺铒氟化铟基光波导最低损

耗（1150nm）为1.00dB/cm，使用棱镜耦合法测试了掺铒光波导折射率为1.5173，折

射率改变量为5.4×10-3。

3.研究了掺铒氟化铟基波导放大器在1.5μm附近的光放大特性。实验使用980nm

哈尔滨工程大学专业学位硕士学位论文

激光器作为泵浦源，直径为8μm、长度为1.5cm的掺铒氟化铟基光波导作为增益介质，

近红外宽带光源作为信号光光源，测试了掺铒波导放大器在1480-1560nm范围内的相

对增益情况，其增益谱的峰值在1535nm处，最大相对增益为7.6dB/cm。

关键词：飞秒激光；氟化铟基光波导；铒离子掺杂；波导放大器

飞秒激光直写氟铟基玻璃光波导及其光放大特性研究

Abstract

Integratedphotonicdeviceshaveveryimportantapplicationsinopticalcommunication,

photoncomputing,integratedopticalchipsandoptoelectronictechnology.Asthemostbasic

opticalcomponentini