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摘要
蓝宝石因其优越的光学、化学和机械性能，被广泛应用于军事、民用、医疗等领
域，这些应用对蓝宝石表面质量和抛光效率的要求越来越高，给硬而脆的蓝宝石晶体
全局平坦化不断带来新的挑战。化学机械抛光技术（CMP）是目前实现全局平坦化唯
一的工艺技术。抛光液作为影响蓝宝石CMP的关键因素之一，其组分和各组分的协
同作用直接决定蓝宝石的抛后效果。不同晶面蓝宝石材料尽管存在各向异性，但硬度
高、耐腐蚀等特点给除C面外其它晶面蓝宝石材料抛光效率的提高带来了极大的困
难
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