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国开知识产权法形考作业四答案.pdf

国开知识产权法形考作业四答案.pdf

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    国开知识产权法形考作业四答案

    一、单项选择题（每小题3分，共30分）

    根据各国立法及有关国际条约的规定，集成电路布图设计要受法律保护必

    须具有（C）。

    A.新颖性

    B.实用性

    C.独创性

    D.专用性

    2.我国对集成电路布图设计专有权的保护期限是（B）。

    A.5年

    B.10年

    C.15年

    D.20年

    3.通过第三人窃取权利人的商业秘密并加以公开或使用是对该商业秘密的

    （B）。

    A.直接侵权

    B

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