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光刻用掺钛石英玻璃标准立项研究报告

ResearchReportonStandardizationofTitanium-dopedQuartzGlassforLithography

摘要

随着集成电路制造工艺向7nm及以下制程节点发展，极紫外光刻（EUVL）技术成为突破摩尔定律物理极限的核心装备技术。作为EUV光刻机的关键材料，掺钛石英玻璃因其超低热膨胀系数（CTE≤10??/℃）和可调控的热力学特性，成为掩模基板和反射镜系统的唯一可选材料。本报告系统分析了国际光刻材料技术发展趋势，指出当前我国在该领域面临的技术瓶颈——美日德企业垄断掺钛石英玻璃制备技术，国产材料在热膨胀均匀性、过零温度控制等关键指标上尚未达到EUV光刻应用要求。通过建立《光刻用掺钛石英玻璃》产品标准，可规范材料的热膨胀系数、应力分布、气泡杂质等23项关键技术指标，为材料研发、工艺优化和质量检测提供科学依据。标准实施后将填补国内空白，支撑国产光刻机核心部件自主可控，预计可带动相关产业年产值增长15亿元。

关键词：极紫外光刻；掺钛石英玻璃；热膨胀系数；材料标准；集成电路

Keywords:EUVlithography;Titanium-dopedquartzglass;Thermalexpansioncoefficient;Materialstandard;Integratedcircuit

正文

1.立项背景与技术挑战

根据国际半导体技术路线图（IRDS2022），到2025年全球EUV光刻机市场规模将突破200亿美元，其中掺钛石英玻璃材料占比达12%。该材料需满足三大核心要求：

1)热膨胀系数空间不均匀性≤±5×10??/℃（ISO17562:2016）

2)过零温度点控制在23±0.1℃（SEMIStandardF139-1108）

3)内部应力双折射≤2nm/cm（GB/T7962.5-2010）

目前美国康宁公司开发的ULE?玻璃（UltraLowExpansionGlass）在300mm晶圆级产品上可实现CTE=0±3×10??/℃的性能，而国产材料仍存在以下技术差距：

-热循环稳定性不足（100次循环后CTE漂移＞10??/℃）

-表面粗糙度＞0.3nmRMS（EUV反射镜要求＜0.1nm）

-TiO?掺杂均匀性偏差＞1.5wt%

2.标准技术内容架构

本标准采用性能导向型编制原则，主要技术框架包括：

2.1材料性能要求

|指标类别|关键技术参数|测试方法依据|

|----------|--------------|--------------|

|热学性能|CTE（-50~100℃）、过零温度、热滞后效应|ISO14405-1|

|光学性能|折射率不均匀性（Δn≤5×10??）、内部透射率|GB/T7962.8|

|力学性能|杨氏模量（67±3GPa）、断裂韧性|ASTMC1421|

2.2先进检测方法

-采用X射线衍射（XRD）分析TiO?晶相分布

-应用相位测量偏折术（PMD）检测表面形变

-建立CTE三维分布数学模型（基于有限元分析）

3.产业化应用价值

通过标准实施可达成以下效益：

1)使材料合格率从现有35%提升至60%以上

2)降低EUV光刻机反射镜热变形误差至＜0.5nm

3)支撑国产28nm光刻机量产（预计2026年）

主要参与单位介绍

中国建筑材料科学研究总院作为本标准牵头单位，建有国家石英玻璃质检中心，拥有：

-国际领先的激光干涉法CTE测量系统（精度0.1ppb/℃）

-自主开发的梯度掺杂工艺装备（专利ZL201810231234.5）

-参与制定ISO/TC206国际标准7项、国家标准42项

近年来承担十四五国家重点研发计划光刻机用超精密光学材料专项，在掺钛石英玻璃领域取得突破性进展：

-实现直径400mm坯体制备

-CTE不均匀性控制在±8×10??/℃

-获得华为、上海微电子等企业应用验证

结论与展望

本标准的制定将构建完整的光刻用掺钛石英玻璃技术体系，重点解决三大行业痛点：

1)建立材料性能与光刻成像质量的关联模型

2)开发在线检测技术实现工艺闭环控制

3)形成从原料提纯到成品加工的全流程规范

随着《中国标准2035》战略实施，建议后续开展：

-与SEMI国际标准对接工作

-筹建国家级光刻材料验证平台

-布局下一代高钛含量（TiO?＞10%）玻璃研发

本报告数据来源于：

[1]SEMIInternationalStandards2023

[2]国家新材料产业发展指南（工信部联规〔2021〕189号）

[3]极紫外光刻关键技术研究报告（中