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碳化硅项目可行性研究报告-第三代半导体,物理性能优势明显
碳化硅被誉为第三代半导体,具有耐高温、耐高压、体积小、拥
有更高热导率的性能优势。第一代半导体材料以硅和锗为元素半导体
为代表,具有低压、低频、低功率的光电性能,可以用来生产传统的
CPU、GPU、MCU等等,90%以上的半导体产品都是用硅基材料制作的;
第二代半导体材料一般是磷化铟、砷化镓,砷化镓材料的电子迁移率
约是硅的6倍,具有直接带隙,因此更具有高频、高速的光电性能,
主要用来生产射频器件、光模块、LED、激光器、探测器、传感器等
微电子和光电子器件,是制作半导体发光二极管和通信器件的关键衬
底材料。第三代半导体是指以碳化硅、氮化镓为代表的宽禁带半导体
材料,与前两代半导体材料相比,第三代半导体材料禁带宽度大,具
有击穿电场高、热导率高、电子饱和速率高、抗辐射能力强等优势,
因此采用第三代半导体材料制备的半导体器件不仅能在更高的温度
下稳定运行,适用于高电压、高频率场景,此外还能以较少的电能消
耗,获得更高的运行能力。
1、碳化硅产业链包括上游衬底和外延、中游器件、下游应用
以碳化硅材料为衬底的产业链主要包括碳化硅衬底材料的制备、
外延层的生长、器件制造以及下游应用市场。从工艺流程上看,碳化
硅一般是先被制作成晶锭,然后经过切片、打磨、抛光得到碳化硅衬
底;衬底上生长单晶外延材料。外延片经过光刻、刻蚀、离子注入、
沉积等步骤制造成碳化硅功率器件和碳化硅射频器件。将晶圆切割成
die,经过封装得到器件,器件组合在一起放入特殊外壳中组装成模
组。
碳化硅产业链
碳化硅产业链附加值向上游集中,衬底和外延的成本占比最高。
根据CASA整理的数据,产业链中,碳化硅衬底和外延的成本分别占
整个器件成本的47%和23%,为产业链中价值量最大的两个环节,相
比硅基器件、价值量显著倒挂。
SiC功率器件成本构成Si功率器件成本构成
衬底和外延是产业链价值量最大的两个环节
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