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中国电子装备技术开发协会

《半导体级超纯高浓度臭氧发生装置》编制说明

(征求意见稿)

一、工作简况

1、任务来源

随着我国半导体产业向高端化、精细化方向快速发展，芯片制程不断突破，

对关键辅助设备的性能要求愈发严苛。半导体级超纯高浓度臭氧发生装置作为芯

片制造中清洗、光刻、掺杂等核心工艺的关键设备，其臭氧纯度、浓度稳定性及

运行可靠性直接影响芯片良率与制程安全性。​

当前，国内市场上该类装置产品质量参差不齐，部分企业生产的装置存在杂

质含量超标、浓度波动大、适配性差等问题，且行业内缺乏统一的技术标准与质

量规范，导致下游半导体企业采购时难以精准判定产品合规性，既增加了供应链

风险，也制约了国产装置的技术升级与市场推广。同时，国际先进标准对技术细

节的把控较为严格，国内企业在参与国际竞争时缺乏适配的标准支撑。​

在此背景下，中国电子装备技术开发协会立足行业发展需求，为规范半导体

级超纯高浓度臭氧发生装置的生产与应用，推动产业高质量发展，决定牵头制定

《半导体级超纯高浓度臭氧发生装置》团体标准。该任务得到了行业内多家装置

生产企业、半导体制造企业、科研机构及检测单位的积极响应，共同组建标准编

制工作组，开启标准研制工作。

本标准由苏州晶拓半导体科技有限公司研发中心提出，经中国联合国采购促

进会批准，正式列入2025年团体标准制修订项目计划，项目名称为《半导体级超

纯高浓度臭氧发生装置》。

本标准起草单位：苏州晶拓半导体科技有限公司、××××。

本标准协作单位：××××。

本标准主要起草人：××××。

2、本标准制定的目的​

统一技术与质量标尺：明确半导体级超纯高浓度臭氧发生装置的核心技术参

数（如臭氧浓度范围、杂质含量限值、浓度波动误差）、安全性能要求（如防爆

等级、尾气处理标准）及检测方法，结束行业内“无标可依”“各自为标”的

混乱局面，为产品生产、检验、采购提供统一依据。​

推动技术创新与升级：整合国内外先进技术成果，将超纯气源处理、精密电

控系统、高效臭氧发生单元等关键技术纳入标准体系，明确技术发展方向，引导

企业聚焦高端化研发，突破低纯度、低稳定性等技术瓶颈，缩小与国际顶尖产品

的差距。​

保障半导体产业链安全：通过规范装置性能与质量，提升国产装置的可靠性

与适配性，降低下游半导体企业对进口设备的依赖，为半导体制造环节提供稳定、

合规的关键设备支撑，助力半导体产业链自主可控。​优化市场竞争环境：设

定合理的技术准入门槛，淘汰技术落后、质量不达标的产品，避免低价无序竞争，

引导企业通过技术创新与质量提升获取市场优势，推动行业向高质量、规范化方

向发展，同时为监管部门开展行业治理提供标准依据。​

3、本标准制定的意义

1.赋能半导体产业高质量发展：作为芯片制造关键辅助设备标准，其实施

可保障臭氧发生装置的纯度与稳定性，直接提升芯片清洗、光刻等核心工艺的精

准度，减少因设备问题导致的良率损耗，为半导体产业向更先进制程突破提供设

备端技术支撑，助力我国半导体产业从“规模扩张”向“质量提升”转型。

2.推动国产装备技术突围：标准整合国际先进技术指标与国内产业实践，

既为国产企业明确了技术升级方向，也通过统一的质量判定体系，帮助国产装置

打破“进口依赖”的市场壁垒。符合标准的国产设备可更顺畅地进入主流半导体

供应链，加速核心装备国产化替代进程，提升我国在半导体装备领域的国际话语

权。

3.规范行业市场秩序：针对当前市场产品质量参差不齐、参数标注混乱等

问题，标准明确了技术准入门槛与质量要求，可有效遏制低价竞争、以次充好等

乱象。同时为监管部门提供清晰的执法依据，推动行业从“无序竞争”向“依规

发展”转变，营造公平、有序的市场环境。

4.降低产业链协作成本：标准统一了产品技术参数、检测方法与验收规范，

下游半导体企业无需与不同供应商逐一协商技术标准，上游设备厂商也无需为适

配不同客户需求反复调整生产，显著减少供需双方的沟通成本与适配成本，提升

整个半导体产业链的协作效率。

4、主要工作过程

20257

本项目虽然正式列入团体标准制订项目计划是