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电子束曝光技术解析原理应用与发展前景汇报人:
目录电子束曝光技术概述01技术核心组成02工艺流程详解03应用领域分析04技术优势与局限05未来发展趋势06
01电子束曝光技术概述
定义与原子束曝光技术概述电子束曝光是一种高精度微纳加工技术，利用聚焦电子束在光刻胶上直接绘制纳米级图形，突破传统光刻的衍射极限。核心工作原理通过电磁透镜系统将电子束聚焦至纳米尺度，计算机控制束斑位置与剂量，实现复杂图形的逐点曝光与显影。电子束与材料相互作用高能电子撞击光刻胶引发化学键断裂或交联，形成溶解度差异，经显影后获得三维微纳结构。分辨率优势解析电子波长极短（0.02-0.2?），理论分辨率
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