第七章气相沉积技术.pptVIP

离子镀膜的特点膜层的附着力强，不易脱落，这是离子镀膜的重要特性。如在不锈钢上镀制20?50?m厚的银膜，可以达到300MPa的粘附强度，钢上镀镍，粘附强度也极好。绕射性好。基片的正面反面甚至内孔、凹槽、狭缝等，都能沉积上薄膜。沉积速率快，镀层质量好。离子镀膜获得的镀层组织致密，针孔、气泡少。而且镀前对工件(基片)清洗处理较简单。成膜速度快，可达75?m/min，可镀制厚达30?m的镀层，是制备厚膜的重要手段。*第30页，共54页，星期日，2025年，2月5日可镀材质广泛离子镀膜可以在金属表面或非金属表面上镀制金属膜或非金属膜，甚至可以镀塑料、石英、陶瓷、橡胶。可以镀单质膜，也可以镀化合物膜。各种金属、合金以及某些合成材料，热敏材料，高熔点材料，均可镀覆。采用不同的镀料，不同的放电气体及不同的工艺参数，就能获得与基体表面附着力强的耐磨镀层，表面致密的耐蚀镀层，润滑镀层，各种颜色的装饰镀层以及电子学、光学、能源科学等所需的特殊功能镀层。*第31页，共54页，星期日，2025年，2月5日离子镀的应用大多数精密刀具都是高速钢制造的，这些刀具制造复杂，价格昂贵，消耗贵金属，迫切需要延长使用寿命。涂层高速钢刀具是离子镀最成功的应用之一，氮化钛化合物膜具有很高的硬度，颜色金黄，广泛用于高速钢刀具和装饰涂层，引起了一场刀具的“黄色革命”。*第32页，共54页，星期日，2025年，2月5日离子镀超硬涂层是在较低温度下沉积的，一般不超过基体材料的回火温度，同时离子镀膜工艺不降低工件的表面光洁度。因此，离子镀通常做为最后一道工序进行。*第33页，共54页，星期日，2025年，2月5日离子镀在日常生活中的应用*第34页，共54页，星期日，2025年，2月5日离子镀的手表*第35页，共54页，星期日，2025年，2月5日三种物理气相沉积技术与电镀的比较*第36页，共54页，星期日，2025年，2月5日7.3化学气相沉积所谓化学气相沉积（CVD），就是利用化学反应的原理，从气相物质中析出固相物质沉积于工件表面形成涂层或薄膜的新工艺。化学气相沉积与物理气相沉积不同的是，沉积粒子来源于化合物的气相分解反应。*第37页，共54页，星期日，2025年，2月5日产生挥发性运载化合物把挥发性化合物运到沉积区发生化学反应形成固态产物化学气相沉积包括三个过程：一是将含有薄膜元素的反应物质在较低温度下气化二是将反应气体送入高温的反应室三是气体在基体表面产生化学反应，析出金属或化合物沉积在工件表面形成涂层。1.CVD的一般原理*第38页，共54页，星期日，2025年，2月5日CVD反应必须满足的三个挥发性条件：反应物必须具有足够高的蒸气压，要保证能以适当的速度被引入反应室；除了涂层物质之外的其它反应产物必须是挥发性的；沉积物本身必须有足够低的蒸气压，以使其在反应期间能保持在受热基体上。*第39页，共54页，星期日，2025年，2月5日以沉积TiC涂层为例，可向850～1100℃的反应室中通入TiCl4、CH4、H2，其中H2氢气作为载体气和稀释剂。经过一系列化学反应，最终生成TiC沉积在工件表面。TiCl4＋CH4+H2→TiC＋4HCl+H2↑*第40页，共54页，星期日，2025年，2月5日2.CVD的分类按沉积的压力不同，化学气相沉积分为常压化学气相沉积低压化学气相沉积兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积（PCVD）等。*第41页，共54页，星期日，2025年，2月5日按沉积的温度不同，化学气相沉积分为低温沉积（500℃以下）中温沉积（500～800℃）高温沉积（900～1200℃）*第42页，共54页，星期日，2025年，2月5日CVD技术的优点：沉积层纯度高，沉积层与基体的结合力强，可以沉积各种单晶、多晶或非晶态无机薄膜材料，设备简单，操作方便，工艺上重现性好，适用于批量生产和成本低廉。3.CVD的特点*第43页，共54页，星期日，2025年，2月5日**第七章气相沉积技术*第1页，共54页，星期日，2025年，2月5日气相沉积技术是近30年来迅速发展的表面技术，它利用气相在各种材料或制品的表面进行沉积，制备单层或多层薄膜，使材料或制品获得所需的各种优异性能。这项技术早期也被称为“干镀”，主要分PVD和CVD：物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition）化