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2025年半导体行业3nm以下GAAFET工艺技术创新深度研究报告.docx

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    2025年半导体行业3nm以下GAAFET工艺技术创新深度研究报告

    一、2025年半导体行业3nm以下GAAFET工艺技术创新深度研究报告

    1.1技术背景

    1.1.1摩尔定律的逼近极限

    1.1.2GAAFET晶体管结构

    1.1.3政府政策支持

    1.2技术创新

    1.2.1晶体管结构创新

    1.2.2材料创新

    1.2.3器件设计创新

    1.3技术挑战

    1.3.1工艺难度

    1.3.2成本控制

    1.3.3生态环境

    1.4技术发展趋势

    1.4.1工艺节点持续缩小

    1.4.2材料创新与应用

    1.4.3绿色制造

    二、技术路线与关键工艺

    2.1技术路线概述

    2.1.1晶体管设计

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