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光学面形绝对检测技术：原理、方法与展望

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代光学领域，光学面形检测作为确保光学元件质量和性能的关键环节，发挥着至关重要的作用。随着科技的飞速发展，众多前沿领域对光学元件的面形精度提出了近乎严苛的要求。以投影光刻曝光光学系统为例，其对面形均方根（RMS）值的要求已达到纳米甚至亚纳米级别，极端的如EUV光刻物镜，面形要求更是高达RMS0.2nm。在天文学领域，大型光学望远镜的反射镜面形精度直接影响其对天体的观测能力和成像质量，高精度的面形检测能确保望远镜捕捉到更微弱、更遥远天体的光线，拓展人类对宇宙的认知边界；在医学成像领域，光学元件的高精度面形可提高成像的清晰度和准确性，帮助医生更精准地诊断疾病。

传统的相对检测方法，如常规菲索干涉仪和泰曼格林干涉仪的检测，依赖于参考面。然而，商用参考面面形一般仅达到λ/10PV（约6nmRMS），这使得相对检测在面对高精度要求时存在局限性，无法准确获取被测表面的真实面形，因为其测量结果包含了参考面的误差以及干涉仪系统本身的误差，难以满足现代光学元件日益增长的高精度需求。

光学面形绝对检测技术应运而生，其核心优势在于能够标定出参考面以及干涉仪系统误差，从而直接获得被测表面的绝对面形质量。这一技术的应用，不仅可以提升光学元件制造的精度和质量，减少因面形误差导致的光学性能损失，还能在光学系统的设计、装配和调试过程中提供更准确的面形数据，有助于优化光学系统的性能，降低系统成本，提高生产效率。因此，开展光学面形绝对检测技术的研究，对于推动现代光学领域的发展，满足高端光学应用的需求，具有重要的理论意义和实际应用价值。

1.2国内外研究现状

光学面形绝对检测技术的发展历程是一部不断追求高精度和突破传统限制的历史。在国外，早在20世纪中期，科研人员就开始探索绝对检测技术，最初主要集中在基础理论和简单方法的研究上。随着计算机技术和光学测量技术的发展，到了20世纪后期，多种绝对检测方法相继被提出并不断完善，如三平（球）面互检法、双球面法等。近年来，随着先进光学制造领域对大口径光学元件检测需求的增长，国外在共轭平移差分法和旋转平移法等方面取得了显著进展，通过优化算法和改进测量装置，进一步提高了检测精度和效率。

在国内，光学面形绝对检测技术的研究起步相对较晚，但发展迅速。早期主要是跟踪国外的研究成果，进行理论学习和方法验证。近年来，国内众多科研机构和高校加大了对该领域的研究投入，在三平（球）面互检法、旋转平均法等传统方法上进行了创新改进，同时积极探索新的检测方法和技术路线。例如，长春理工大学付跃刚教授团队对多种绝对检测方法进行了深入研究，通过对比得出各方法的适用领域以及存在的相应技术限制，并从物理实现和算法两方面对绝对检测技术的未来发展趋势进行展望，提出可利用深度神经网络算法和计算光学成像技术进一步提高光学面形的绝对检测精度；中国科学院长春光学精密机械与物理研究所的科研人员提出了一种基于四平面法的光学平面面形绝对检测方法，对辅助透射镜的光学不均匀性和重力形变等影响因素进行了标定和剔除，极大提升了大口径光学平面面形检测的精度。

尽管国内外在光学面形绝对检测技术方面取得了丰硕的研究成果，但现有技术仍存在一些不足。例如，部分检测方法对测量环境要求苛刻，易受外界干扰影响检测精度；一些方法在测量大口径光学元件时，由于机械结构的限制，难以实现高精度的姿态调整，导致位置匹配误差增大；此外，在算法方面，虽然现有算法能够处理大部分面形检测问题，但对于复杂面形和高精度要求，仍存在计算效率低、精度不够高等问题，难以满足实际应用的需求。

1.3研究内容与方法

本文主要聚焦于光学面形绝对检测技术展开深入研究。首先，对多种常见的绝对检测技术，包括三平（球）面互检法、旋转平均法、平移差分法、旋转平移法等，进行全面且细致的原理剖析。深入探究每种方法的测量原理、数学模型以及数据处理方式，明确其在不同应用场景下的优势与局限性，为后续的研究和方法选择提供坚实的理论基础。

其次，开展不同绝对检测方法的对比研究。从检测精度、适用范围、测量效率、对测量环境的要求以及设备成本等多个维度，对各种方法进行系统的比较分析。通过理论推导和实际案例分析，量化不同方法在各项指标上的差异，从而为实际工程应用中根据具体需求选择最合适的检测方法提供科学依据。

再者，针对现有检测方法中存在的关键问题和技术难点，如测量过程中的系统误差和随机误差的控制与消除、复杂面形的高精度检测、大口径光学元件检测时的姿态调整和位置匹配误差等，进行重点研究和技术攻关。探索新的误差补偿算法、优化测量装置的机械结构设计以及创新检测流程，以提高光学面形绝对检测的精度和可靠性。

在研究方法上，综合运用理论分析、实验研究和数值模拟相结合的方式。