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电子玻璃制品镀膜工创新实践考核试卷含答案

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电子玻璃制品镀膜工创新实践考核试卷含答案

考生姓名：答题日期：判卷人：得分：

题型

单项选择题

多选题

填空题

判断题

主观题

案例题

得分

本次考核旨在评估学员在电子玻璃制品镀膜工领域的创新实践能力，检验其理论知识与实际操作技能的掌握程度，确保学员能够满足现实生产需求。

一、单项选择题（本题共30小题，每小题0.5分，共15分，在每小题给出的四个选项中，只有一项是符合题目要求的）

1.电子玻璃制品镀膜过程中，用于提高膜层附着力的前处理方法不包括（）。

A.硅烷偶联剂处理

B.氧化处理

C.溶剂处理

D.酸性处理

2.镀膜工艺中，下列哪种镀膜方式不属于物理气相沉积（PVD）？（）

A.真空镀膜

B.离子镀膜

C.化学气相沉积

D.电子束蒸发镀膜

3.在电子玻璃制品镀膜中，常用的透明导电膜材料是（）。

A.ITO

B.SnO2

C.ZnO

D.Al

4.镀膜过程中，膜层厚度最难以精确控制的是（）。

A.磁控溅射

B.化学气相沉积

C.真空蒸发

D.离子束溅射

5.电子玻璃制品镀膜时，防止膜层划伤的措施不包括（）。

A.使用无尘操作环境

B.镀膜前对玻璃表面进行清洗

C.镀膜过程中使用粗砂纸擦拭

D.镀膜完成后立即进行保护处理

6.镀膜工艺中，用于检测膜层厚度的常用仪器是（）。

A.显微镜

B.精密天平

C.射频厚度计

D.荧光光谱仪

7.下列哪种镀膜方式适用于大面积、高均匀性的镀膜？（）

A.化学气相沉积

B.真空蒸发

C.离子束溅射

D.溅射镀膜

8.电子玻璃制品镀膜过程中，膜层的孔隙率过高会导致（）。

A.膜层强度提高

B.膜层透明度提高

C.膜层耐腐蚀性增强

D.膜层附着性降低

9.镀膜工艺中，用于提高膜层耐热性的方法不包括（）。

A.使用高熔点材料

B.降低膜层厚度

C.优化镀膜工艺参数

D.增加膜层硬度

10.下列哪种镀膜方式适用于低温镀膜？（）

A.真空蒸发

B.化学气相沉积

C.离子束溅射

D.溅射镀膜

11.电子玻璃制品镀膜时，用于清洗玻璃表面的溶剂主要是（）。

A.丙酮

B.乙醇

C.硝酸

D.盐酸

12.镀膜工艺中，膜层内应力过大时，会导致（）。

A.膜层颜色变深

B.膜层脱落

C.膜层透光率降低

D.膜层强度提高

13.下列哪种镀膜方式适用于复杂形状的玻璃制品？（）

A.化学气相沉积

B.真空蒸发

C.离子束溅射

D.溅射镀膜

14.电子玻璃制品镀膜过程中，用于检测膜层均匀性的常用方法是（）。

A.显微镜

B.射频厚度计

C.荧光光谱仪

D.红外光谱仪

15.下列哪种镀膜方式适用于薄膜的快速制备？（）

A.化学气相沉积

B.真空蒸发

C.离子束溅射

D.溅射镀膜

16.镀膜工艺中，膜层表面粗糙度主要受（）影响。

A.镀膜材料

B.镀膜工艺参数

C.玻璃表面质量

D.环境温度

17.电子玻璃制品镀膜时，用于提高膜层耐磨性的方法不包括（）。

A.增加膜层硬度

B.降低膜层厚度

C.优化镀膜工艺参数

D.使用高熔点材料

18.下列哪种镀膜方式适用于低温、低压条件下的镀膜？（）

A.化学气相沉积

B.真空蒸发

C.离子束溅射

D.溅射镀膜

19.镀膜工艺中，膜层表面缺陷主要包括（）。

A.空洞

B.挂渣

C.气泡

D.以上都是

20.电子玻璃制品镀膜时，用于提高膜层耐腐蚀性的方法不包括（）。

A.使用耐腐蚀性材料

B.优化镀膜工艺参数

C.降低膜层厚度

D.增加膜层硬度

21.下列哪种镀膜方式适用于大面积、高均匀性的镀膜？（）

A.化学气相沉积

B.真空蒸发

C.离子束溅射

D.溅射镀膜

22.镀膜工艺中，用于检测膜层电阻率的常用仪器是（）。

A.显微镜

B.精密天平

C.射频厚度计

D.电阻率测试仪

23.电子玻璃制品镀膜过程中，膜层应力过小会导致（）。

A.膜层强度降低

B.膜层透光率提高

C.膜层耐腐蚀性增强

D.膜层附着性降低

24.下列哪种镀膜方式适用于复杂形状的玻璃制品？（）

A.化学气相沉积

B.真空蒸发

C.离子束溅射

D.溅射镀膜

25.镀膜工艺中，膜层均匀性主要受（）影响。

A.镀膜材料

B.镀膜工艺参数

C.玻璃表面质量

D.环境