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- 2025-10-18 发布于上海
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金红石TiO?阵列薄膜:制备、掺杂工艺与性能优化的深度探究
一、引言
1.1研究背景与意义
在材料科学的广袤领域中,纳米氧化物电介质材料占据着举足轻重的地位,其不仅作为基础的电介质材料被广泛应用,更因其独特的压电效应、热释电效应、光电效应和铁电效应,成为实现力、热、光、电等不同形式能量与信息交互的关键材料,在电工学领域,纳米氧化物材料常被用作电容器介质、隔离和掩膜层以及表面钝化膜,为各类电子器件的稳定运行提供保障。随着科技的飞速发展,对器件高性能集成化的追求使得器件尺寸不断缩小,当功率器件的栅极介质层厚度减小到一定程度时,隧穿电流问题随之出现,严重影响器件性能与稳定性。在这样的背景下,高介
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