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La1-xSrxCrO3薄膜的脉冲激光沉积制备工艺与性能的深度探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代材料科学与技术领域，薄膜材料因其独特的物理、化学性质以及广泛的应用前景，成为了研究的热点之一。薄膜材料是指在基片表面通过物理或化学方法沉积而成的、厚度在几纳米到几微米之间的材料层。由于其厚度极薄，具有比块体材料更优异的性能，如更高的比表面积、更好的光学透过性、更低的电阻率等，因此在电子学、光学、能源、传感器等众多领域都发挥着不可或缺的作用。

在电子学领域，薄膜材料是集成电路、半导体器件、平板显示器等关键组件的重要组成部分。例如，硅基半导体薄膜是制造晶体管、二极管等基本元件的核心材料，其性