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阴离子掺杂诱导高熵氧化物多缺陷调控研究

目录

文档概要．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7

1.1.1高熵氧化物的兴起．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8

1.1.2阴离子掺杂技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10

1.1.3多缺陷材料研究的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11

1.2国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12

1.2.1高熵氧化物研究进展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15

1.2.2阴离子掺杂对材料性能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

1.2.3多缺陷调控策略概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19

1.3研究目标与内容．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

1.3.1主要研究目标．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21

1.3.2具体研究内容．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23

1.4技术路线与研究方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24

1.4.1实验制备方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

1.4.2表征分析手段．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26

1.4.3性能测试方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29

1.5论文结构安排．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30

高熵氧化物与阴离子掺杂理论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31

2.1高熵氧化物基本概念．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33

2.1.1高熵氧化物定义与特征．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36

2.1.2高熵氧化物的形成机制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36

2.1.3高熵氧化物的结构多样性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．38

2.2阴离子掺杂机理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．39

2.2.1阴离子掺杂的驱动力．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．41

2.2.2阴离子取代与价态变化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．42

2.2.3掺杂对能带结构的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43

2.3多缺陷形成机制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．45

2.3.1缺陷类型与产生途径．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．49

2.3.2缺陷间相互作用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．50

2.3.3缺陷对材料性能的综合影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．52

2.4阴离子掺杂诱导多缺陷调控的理论基础．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．53

2.4.1掺杂与缺陷的关联性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．57

2.4.2调控策略的理论依据．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．58

实验设计与材料制备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．59

3.1实验原料与试剂．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．61

3.1.1主要前驱体选择．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．64

3.1.2阴离子掺杂源．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．65

3.1.3辅助化学试剂．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．