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基于全内反射法的亚表面损伤深度位置测量技术研究

一、绪论

1.1研究背景与意义

在现代光学系统中，光学元件作为核心组成部分，其性能优劣直接关乎整个光学系统的运行成效。光学元件在制造过程中，由于受到磨削、研磨、抛光等加工工艺的影响，不可避免地会在其近表面区域产生亚表面损伤，这些损伤包括裂纹、划痕、残余应力和夹杂物等。亚表面损伤不仅直接降低光学元件的使用寿命、成像质量和激光损伤阈值等性能指标，而且间接影响光学元件的长期稳定性和镀膜质量等方面，最终影响光学元件的面形精度。

以高功率激光系统为例，光学元件的亚表面损伤会成为激光损伤的隐患，在强激光作用下，损伤区域可能会发生破坏，进而导致整个光学系统