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吴汉东《知识产权法学》（第七版）第十章知识点笔记

一、集成电路布图设计的概念与法律属性

集成电路布图设计（简称“布图设计”）是新型知识产权客体，其保护制度是技术发展与法律完

善的结合产物，核心解决“高投入、易复制”技术成果的权益保障问题，是本章基础考点。

（一）核心概念解析

布图设计指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或全部互连线路的三维配

置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。具有三大技术特征：

1.空间性：通过光刻等工艺形成的三维空间布局，区别于平面设计；

2.功能性：服务于电子信号的传输与处理，无美学价值要求；

3.复制性：可通过拍照、逆向工程等技术低成本复制，需法律特别保护。

（二）法律属性定位

布图设计既非专利也非著作权，属于独立知识产权类型，其特殊性体现在：

•与专利权：无需达到技术方案的创造性高度，仅需满足非显而易见性；“”“”

•与著作权：不保护思想表达，仅保护具体线路配置的固定表达；

•立法模式：采用专门立法保护（如我国《集成电路布图设计保护条例》），而非纳入专利

或著作权体系。

★高频考点：布图设计的概念与技术特征；与专利、著作权的区别。

二、布图设计的保护条件

布图设计获得法律保护需满足法定实质条件，是权利取得的核心前提，实务中常作为侵权抗辩

与确权争议的焦点。

（一）实质条件（高频考点）

根据《集成电路布图设计保护条例》及TRIPS协定要求，需同时满足三项条件：

1.原创性：由设计人独立完成，且在其创作完成时，对布图设计创作者所属领域的专业人员

而言不是显而易见的。

◦排除“常规设计”：如通用逻辑单元的常规组合不具备原创性；

◦合作设计：各部分均需满足原创性要求，整体组合需体现创新性。

1.固定表达：必须以物理形式固定下来，如通过掩模、光刻版等方式附着于半导体芯片或其

他载体。仅停留在构思阶段的设计不受保护。

2.非显而易见性：与现有设计相比，存在实质性差异，需达到“所属领域专业人员需付出创造

性劳动才能完成”的标准。

（二）排除性情形

以下设计不受保护：

1.常规性、通用性的布图设计；

2.仅具有理论意义而未实际固定的设计；

3.违反法律、行政法规或损害公共利益的设计。

★高频考点：布图设计保护的三项实质条件；原创性与非显而易见性的认定标准。

三、布图设计权的取得与权利内容

布图设计权的取得需遵循法定程序，权利内容具有严格的范围限定，体现“保护创新与促进利

用”的平衡。

（一）权利取得程序

我国采用“登记生效主义”，权利取得需经三步流程（高频考点）：

1.申请：由设计人或权利人向国家知识产权局提交申请书、布图设计复制件、权利归属证明

等材料；

◦优先权规则：自首次在外国申请登记之日起6个月内，可在我国主张优先权。

1.审查：国家知识产权局进行形式审查（材料完整性）与实质审查（保护条件符合性），审

查周期一般为3-6个月；

2.登记公告：审查通过后予以登记并公告，公告期内无异议或异议不成立的，颁发权利证

书。

（二）权利主体

1.原始主体：自然人、法人或非法人组织独立完成布图设计的，为原始权利人；

2.继受主体：通过转让、继承、许可等方式取得权利的主体，需办理权利转移登记。

（三）权利内容（核心考点）

布图设计权人享有两项核心财产权，人身权不单独规定：

1.复制权：以光学、电子等方式重复制作布图设计的全部或部分的权利。

◦限制：非商业目的的个人复制、反向工程中的复制不构成侵权。

1.商业利用权：为商业目的进口、销售或以其他方式提供含有该布图设计的集成电路或含有

该集成电路的产品的权利。

◦行使方式：可自行实施、许可他人实施或转让权利。

（四）权利保护期限

保护期为10年，自登记申请日或在世界任何地方首次商业利用日起算，以较前者为准；未登

记且未商业利用的，自创作完成之日起15年后不再保护。

★高频考点：登记生效主义的程序要求；复制权与商业利用权的内涵；保护期限的起算标准。

四、布图设计权的限制与侵权规制

权利限制旨在避免垄断，侵权规制则明确权利边界，二者共同构成布图设计保护的实践核心。

（一）权利限制情形（高频考点）

1.合理使用：

◦为个人学习、研究目的复制；

◦为评价、分析他人布图设计而进行反向工程（需独立创作新设计）；

◦教学科研中少量使用，且不用