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大功率器件用氮化钨各向异性刻蚀工艺的深度剖析与创新实践
一、引言
1.1研究背景与意义
随着现代科技的飞速发展,对大功率器件的性能要求日益提高。在5G通信、新能源汽车、智能电网等众多领域,大功率器件作为核心部件,其性能的优劣直接影响着整个系统的运行效率、稳定性以及可靠性。氮化钨(WN)作为一种新型的宽禁带半导体材料,凭借其独特的物理性质,如高热导率、高电子迁移率、良好的化学稳定性和机械性能,在高温、高频、大功率器件领域展现出巨大的应用潜力,成为了研究的热点。
在大功率器件的制造过程中,刻蚀工艺是至关重要的一环。它直接关系到器件的尺寸精度、表面质量以及最终的性能表现。由于氮化钨材料自身的
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