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2025年特种设备无损检测人员资格考试（无损检测基本知识）复习题及答案

一、单项选择题（每题1分，共40分。每题只有一个正确答案，请将正确选项字母填入括号内）

1.射线照相中，决定胶片对比度的首要因素是（）

A.管电压B.曝光量C.胶片类型D.显影条件

答案：C

解析：胶片类型直接决定其固有梯度，是影响对比度的首要因素，其余条件仅起次要修正作用。

2.在超声横波检测中，探头K值由以下哪组参数确定（）

A.入射角与纵波声速B.入射角与横波声速C.折射角与纵波声速D.折射角与横波声速

答案：B

解析：K=tanθ，θ为探头入射角，横波声速决定折射角，故选B。

3.渗透检测时，下列哪种情况会导致“虚假显示”（）

A.过度清洗B.显像剂过厚C.工件温度低于10℃D.乳化时间不足

答案：B

解析：显像剂过厚会掩盖缺陷开口或造成毛细作用紊乱，形成非相关显示。

4.磁粉检测中，周向磁化电流按经验公式I=25D计算时，D的单位是（）

A.mmB.cmC.inchD.m

答案：B

解析：国内标准沿用厘米-克-秒制，D为cm。

5.对于X射线机，焦点尺寸增大将导致（）

A.几何不清晰度减小B.固有不清晰度增大C.对比度增大D.散射比减小

答案：A

解析：焦点越大，半影区减小，几何不清晰度Ug降低。

6.在TOFD技术中，下列哪一信号用于测量缺陷高度（）

A.侧向波B.底面反射波C.衍射波D.表面波

答案：C

解析：缺陷上下尖端衍射波时间差直接换算高度。

7.当量法在超声检测中主要用于（）

A.定位B.定量C.定性D.定材质

答案：B

解析：当量法用标准反射体回波高度比较缺陷大小，实现定量。

8.射线底片上出现“树枝状”黑影，最可能原因是（）

A.静电感光B.增感屏划伤C.胶片受潮D.显影液氧化

答案：A

解析：静电放电使卤化银还原，形成树枝状银粒沉积。

9.下列哪项不是渗透剂中染料应具备的性能（）

A.高荧光亮度B.低蒸发速率C.低毒性D.高导电性

答案：D

解析：染料无需导电，其余均为关键指标。

10.在磁化规范中，连续法与剩磁法的主要区别是（）

A.磁化方向B.施加磁粉时机C.电流类型D.磁场强度

答案：B

解析：连续法在通电磁化同时施加磁粉；剩磁法在断电后施加。

11.对于Se-75源，其半值层厚度（HVL）在钢中约为（）

A.5mmB.8mmC.12mmD.18mm

答案：B

解析：Se-75平均能量0.206MeV，钢HVL约8mm。

12.超声探头晶片厚度t与频率f满足（）

A.t=λ/2B.t=λC.t=2λD.t=λ/4

答案：A

解析：晶片共振条件t=λ/2，λ为晶片材料中波长。

13.在CR技术中，PSL现象指（）

A.光激励发光B.光电导衰退C.潜影消退D.激光散射

答案：A

解析：Imagingplate受激光激发发出PSL光，被PMT读取。

14.下列哪种缺陷最适合用MFL方法检测（）

A.表面疲劳裂纹B.内部气孔C.埋藏夹渣D.疏松

答案：A

解析：MFL对表面开口裂纹敏感，内部缺陷漏磁场弱。

15.射线照相中，曝光系数公式E=k·V?·t，指数n一般取（）

A.1B.2C.3D.5

答案：D

解析：实验表明n≈5，电压微小变化需大幅调整时间。

16.超声检测中，采用双晶探头主要解决（）

A.近表面盲区B.材料衰减C.声速变化D.波型转换

答案：A

解析：发射接收分离，降低界面反射干扰，缩小盲区。

17.渗透检测时，乳化时间取决于（）

A.缺陷宽度B.表面粗糙度C.渗透剂粘度D.以上全部

答案：D

解析：粗糙度大、粘度高、缺陷窄均需延长乳化。

18.磁粉检测中，A型试片用于（）

A.校验设备电流B.校验紫外线强度C.校验灵敏度D.校验提升力

答案：C

解析：A型试片人工缺陷显示，验证系统综合灵敏度。

19.在DR系统中，DQE指标主要影响（）

A.空间分辨率B.对比灵敏度C.检测速度D.动态范围

答案：B

解析：DQE高则信噪比优，对比灵敏度提升。

20.当射线穿过工件后，强度衰减遵循（）

A.平方反