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上海市浦东新区2025届高三上学期学业质量检测化学试题

学校:____________姓名：____________班级：____________考号：____________

一、填空题

1．蚀刻是半导体制造工艺中的重要步骤，其原理是通过物理或化学方法对材料(如Al、Si等)进行选择性的去除，蚀刻分为干法蚀刻和湿法蚀刻，Cl2和BCl3是干法蚀刻Al时常用的氯基气体。

(1)蚀刻铝时发生了Cl2和Al的反应，这说明Cl2具有____________。

A．酸性B．可燃性C．氧化性D．漂白性

(2)蚀刻铝时的生成物之一AlCl3可作净水剂，原因是它溶于水能形成Al(OH)3胶体，下列关于Al(OH)3胶体的认识，错误的是____________。

A．可以产生丁达尔现象B．可以透过半透膜

C．Al(OH)3胶体呈电中性D．可以吸附水中的悬浮颗粒物

(3)已知硼是第2周期IIIA族的元素，下列关于硼的说法正确的是____________。

A．非金属性：硼碳B．最高价氧化物对应水化物酸性：硼氯

C．原子半径：硼氮