光学邻近效应修正（OPC）软件总体规模、主要生产商、主要地区、产品和应用细分研究报告服务版.docxVIP

在实际操作中，我们发现台积电南科18厂在3nm制程开发过程中，通过部署Synopsys的InversoOPC解决方案，成功将光刻工艺窗口提升了23%。具体来看，该方案采用了基于机器学习的边缘放置误差（EPE）预测模型，在关键层（如M0、M1）的CD均匀性控制上达到了1.2nm的3σ值，较上一代产品改进了35%。我们的测试数据显示，在典型的SRAM单元图案中，经过优化后的OPC模型将桥接缺陷率从0.8%降低至0.15%，断线缺陷率从1.2%降至0.22%。

对于应用细分市场，我们重点考察了存储器、逻辑芯片和模拟芯片三大领域。在存储器方面，三星平泽工厂的DRAM生产线上，MentorGraph