磁控溅射制备超薄TiN薄膜电极：工艺、性能与应用探索.docx

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2025-11-10 发布于上海
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磁控溅射制备超薄TiN薄膜电极：工艺、性能与应用探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料科学与工程领域，薄膜材料因其独特的物理、化学性质，在众多现代技术应用中扮演着关键角色。氮化钛（TiN）薄膜作为一种典型的过渡金属氮化物薄膜，凭借其一系列优异特性，受到了广泛关注。

TiN薄膜具有高硬度，其维氏硬度可达2000-2500HV，这使得它在刀具、模具等领域成为理想的耐磨涂层材料，能够显著提高工具的使用寿命和切削性能。在机械加工过程中，刀具表面涂覆TiN薄膜后，可有效减轻切削刃边材料的附着，提高切削力，同时改善工件的表面质量。其良好的化学稳定性和耐腐蚀性，使其能在各种恶劣化学