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探究SiO?增透膜制备工艺与表面性能的关联

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代光学领域，随着各类光学器件的不断发展和广泛应用，对其性能的要求也日益提高。增透膜作为一种能够有效减少光线在光学元件表面反射、增加透射率的关键光学薄膜，在众多光学系统中发挥着不可或缺的作用。其中，SiO?增透膜因其独特的物理化学性质，成为了研究和应用的热点。

SiO?具有良好的化学稳定性、光学透明性以及较低的折射率等优点，使其非常适合作为增透膜的材料。在光学器件中，如光学镜片、太阳能电池、光电探测器等，表面的反射会导致光线能量的损失，降低器件的性能。以太阳能电池为例，未经增透处理的电池表面反射损失可达8%左右