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高度取向铌酸铋钙薄膜的制备工艺与构效关系研究
一、引言
1.1研究背景与意义
在当今科技飞速发展的时代,电子材料的性能提升对于推动各个领域的进步起着至关重要的作用。铁电薄膜作为一类具有独特物理性质的功能材料,因其具备良好的铁电、压电、热释电等特性,在微电子学、光电子学和微电子机械系统等众多领域展现出了极为广阔的应用前景,成为了目前科学研究的前沿和热点之一。
从微电子领域来看,铁电薄膜在铁电随机存取存储器(FeRAM)中的应用,为实现高速、低功耗的数据存储提供了可能,有望解决传统存储器在存储速度和能耗方面的瓶颈问题。在光电子学领域,其可用于制造光调制器、光开关和光波导等关键器件,对于提升光通信
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