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卸妆油产品课件

目录

CATALOGUE

01

产品概述

02

核心成分解析

03

核心优势特点

04

正确使用指南

05

选购指导建议

06

市场定位趋势

PART

01

产品概述

卸妆油定义与分类

定义与用途

按功能细分

按成分分类

卸妆油是以油性成分为基底，通过“以油溶油”原理溶解彩妆、防晒霜及皮脂分泌物的清洁产品。其高渗透性可深入毛孔，清除防水性彩妆（如睫毛膏、唇釉）及顽固污垢，同时减少摩擦对皮肤的刺激。

可分为矿物油基（稳定性高但可能致痘）、植物油基（含天然脂肪酸，亲肤性强但易氧化）和合成酯基（质地清爽，易冲洗，适合敏感肌）。部分产品会添加乳化剂以提升水洗效果。

包括基础卸妆型（仅清洁）、养肤型（含角鲨烷、维生素E等保湿成分）和专效型（针对眼唇部位或抗痘配方）。

主要质地形态区分

纯油质地

流动性强，卸妆力最佳，需干手干脸使用，适合浓妆或油性肌肤，但部分产品可能残留油腻感，需二次清洁。

固态油膏

通过体温融化，清洁力强且便携，常含蜡质成分，适合旅行或干性肌肤，但操作步骤较繁琐。

水油分层型

使用前需摇匀，兼具油的溶解力与水的清爽感，适合日常淡妆，但卸除防水产品效果较弱。

凝胶油状

触感轻盈，遇水乳化快，适合敏感肌或追求快速冲洗的用户，但对厚重彩妆需加大用量。

相似相溶机制

产品中的非离子表面活性剂（如PEG-20甘油三异硬脂酸酯）遇水后形成胶束，包裹油污并随水冲走，避免残留。乳化速度与彻底性直接影响使用体验。

乳化技术

温和清洁平衡

优质卸妆油需兼顾清洁力与屏障保护，通过添加红没药醇、植物甾醇等舒缓成分，减少皮脂膜损伤，避免过度清洁导致的干燥或泛红。

卸妆油中的油性成分（如霍霍巴油、棕榈酸异丙酯）与彩妆中的油脂、蜡质结构相似，通过溶解作用剥离彩妆，尤其对硅油类成膜剂（常见于粉底液）效果显著。

核心功效原理说明

PART

02

核心成分解析

基底油脂选择标准

亲肤性与安全性

优先选择与皮脂膜结构相似的天然油脂（如荷荷巴油、橄榄油），确保低刺激性且通过皮肤敏感测试，避免矿物油中杂质引发的闭口风险。

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溶解力与渗透性

需具备强效溶解彩妆（尤其防水型产品）的能力，同时分子量适中（如葡萄籽油），既能快速渗透又不堵塞毛孔。

稳定性与保质期

抗氧化性高的油脂（如山茶花油）可延缓酸败，配合真空包装或添加维生素E延长产品使用寿命。

肤感调节需求

轻质油脂（如角鲨烷）适合油性肌肤，丰润油脂（如乳木果油）适配干性肌肤，需平衡清爽度与卸妆力。

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维生素C衍生物搭配白藜芦醇，中和自由基并预防卸妆后肌肤氧化暗沉，提升后续护肤吸收效率。

抗氧化复合物

水杨酸或木瓜蛋白酶微囊技术，温和溶解角栓并调控油脂分泌，实现深层清洁不伤屏障。

毛孔清洁辅助

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添加红没药醇、甘草酸二钾等，缓解卸妆过程中的摩擦刺激，尤其适用于敏感肌和术后修复场景。

抗炎舒缓成分

神经酰胺+透明质酸协同作用，补偿清洁导致的皮脂流失，维持肌肤水合度避免紧绷感。

保湿锁水体系

活性添加成分功能

乳化体系关键技术

HLB值精准调控

通过Span-80（亲油）与Tween-80（亲水）复配，将HLB值调整至8-12区间，实现一秒乳化且无残留。

微乳化工艺

采用高压均质技术将乳化剂粒径控制在100nm以下，提升冲洗性并减少对屏障的物理摩擦损伤。

温度敏感性设计

PEG-20甘油三异硬脂酸酯等成分在体温下触发乳化，避免冷水冲洗时的油膜残留问题。

多重乳化结构

水包油包水（O/W/O）体系兼顾溶妆力与易冲洗性，适配防水睫毛膏等顽固彩妆场景。

PART

03

核心优势特点

高效溶解彩妆能力

深层清洁油性彩妆

卸妆油通过“以油溶油”原理，可快速溶解防水睫毛膏、持久唇釉等油性彩妆，避免残留堵塞毛孔。其分子结构与彩妆油脂相似，能渗透至毛孔内部清除顽固污垢。

快速乳化技术

优质卸妆油遇水后能迅速乳化，将溶解的彩妆包裹成微小颗粒，清水冲洗即可带走，无需反复揉搓，减少对皮肤的摩擦损伤。

广谱卸妆兼容性

适用于粉底液、眼线胶、高光粉等不同质地彩妆，甚至可卸除部分纹身贴和舞台特效妆，满足专业级卸妆需求。

温和亲肤低刺激度

天然油脂基底配方

采用橄榄油、荷荷巴油等植物油脂作为主要成分，避免矿物油可能引发的闷痘风险，尤其适合敏感肌和痘痘肌使用。

无酒精/香精添加

通过剔除刺激性成分，降低眼部使用时产生的刺痛风险，部分产品通过眼科医生测试认证，确保入眼无虞。

pH值接近皮脂膜

产品pH控制在5.5-6.5之间，与健康肌肤的弱酸性环境匹配，使用后不会破坏皮肤屏障功能或引发紧绷感。

养肤成分附加价值

抗氧化复合配方

添加维生素E、角鲨烷等成分，在卸妆同时中和自由基，延缓清洁后的肌肤氧化暗沉现象。

保湿锁水体系

部分高端线产品含茶树精油或甘草酸二钾，可抑制清洁过程