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2022年高性能靶材行业发展报告

CONTENTS目录01行业综述02行业发展环境03行业现状04行业前景趋势

行业定义溅射是半导体、光电行业制备电子薄膜材料的一种物理气相沉积技术，指固体靶中的原子被高能量离子（通常来自等离子体）撞击而离开固体进入气体的物理过程。溅射的工艺原理是利用高能量金属等离子体（由离子源产生）在充有惰性气体的高真空系统中，通过高压电场的作用，促使氩气电离加速聚集成高速氩离子流，轰击靶阴极，被溅出的靶材料原子或分子沉积在半导体芯片或玻璃、陶瓷基材表面，从而形成各类纳米或微米功能薄膜。靶材是在溅射过程中被高速金属等离子体流轰击的目标材料，是制备功能薄膜的原材料，又称“溅射靶材”，更换不同靶材可以得到不同的膜系。本文所研究的高性能靶材是指应用领域为半导体、平面显示、太阳能电池领域的金属纯度为99.95%以上的溅射靶材。靶材制造的工序步骤精细且繁多，其工艺流程管理水平和制造水平直接影响靶材的质量和良品率。靶材制造首先需要根据应用元件的性能需求进行工艺设计，其次再进行金属提纯、压制成型、气氛烧结、塑性加工、热处理、超声探伤、机械加工、水切割、机械加工、金属化、绑定、超声测试、超声清冼、栓验出货等15项工序。在靶材烧制的工艺过程中，需要精确控制晶粒、晶向等关键指标以确保靶材性能01.

产业链中游产业链上游高纯金属原材料、生产设备供应商产业链下游行业产业链中国高性能靶材行业产业链分为三部分:产业链上游参与者为高纯金属原材料和生产设备供应商；产业链中游主体为高性能靶材产品制造企业；产业链下游参与者是为半导体、面板、太阳能电池、存储器等生产厂商。高性能靶材产品制造企业产业链下游参与者是为半导体、面板、太阳能电池、存储器等生产厂商

产业链上游产业链上游靶材行业上游主要为铝、铜、钛、钽、钨、金、银等各类高纯度金属供应商和生产设备供应商，其中高纯金属原材料生产成本可占据靶材生产成本的80%左右，上游原材料价格波动及供应状况会对中游企业的利润空间和产品品质产生重要影响（2-7）。原材料:高纯度金属材料是高性能靶材生产的基础，半导体领域用靶材、平板显示用靶材、太阳能电池用靶材、光学靶材、数据存储用靶材对上游金属纯度要求不同。超大规模集成电路半导体芯片对金属纯度要求通常要达到99.9995%（5N5）以上，平板显示器和太阳能电池等领域对金属纯度的要求略低，要求分别为99.999%（5N）和99.995%（4N5）以上。中国虽然是铝、铜、钛、钽、钨金属储存和初级金属生产大国，但本土相关厂商高纯度加工技术和规模化生产能力较低，金属纯度较低，提纯后金属大部分无法达到高纯靶材生产需要。中国本土靶材生产厂商主要通过向日、美等外资企业进口获得上游高纯金属原材料供给。因此以美国、日本等国家为主的高纯金属生厂商对中游靶材生产企业有极强的议价能力。近五年，为满足高性能靶材生产企业降低原料成本，规模化生产需求，中国本土企业在超高纯原料的制备发展迅速，正逐步实现进口。例如宁夏东方钽业可提供3N5、4N、4N5三类级别高纯靶材原料。金川集团、紫金矿业、贵研铂业可以提供高纯贵金属类原材料，国产化速度不断加快。生产设备:靶材生产线由30多种设备构成，主要包括靶材冷轧系统设备、热处理设备、热等静压设备、超声波焊接分析系统等。由于靶材生产工序较长且复杂，靶材生产线组建费用处于7,000万元~14,000万元之间，生产线价值高导致固定资产折旧费用较高，生产设备折旧类制造费用占据整体生产成本的17.4%。中国本土企业为降低生产成本，通常与设备厂商联合进行定制化设备生产。例如，2018年1月，江丰与四川航空工业川西机器有限责任公司合作，联手打造国内首创的超大规格热等静压设备。此外江丰电子与本土设备厂家经过四年，研制出的金属焊接装备在焊接单工序上每年可节省几百万元，生产周期由30天缩短为3天。

产业链中游产业链中游高性能靶材行业中游企业原材料大部分依靠进口，主要原因是下游消费终端为保障科研成果，对行业产品的质量稳定性要求较高，因此，中游科研用制备厂商更倾向于选择仪器先进、供应链稳定的进口原材料供应商。企业产品价格主要受市场供求关系的影响。由于高性能靶材企业的产品毛利较高，原材料价格波动不会对企业的盈利能力产生重大影响。

产业链下游产业链下游中国高性能靶材行业下游主要应用于半导体集成电路、平板显示、太阳能电池、信息存储、光学等领域（2-8）。平板显示、半导体集成电路、太阳能电池三大应用领域占比超过60%，是靶材应用最主要的领域。（1）平板显示应用:平板显示器多由金属电极、透明导电极、绝缘层、发光层组成，在平板显示生产工艺中，需要大量使用溅射技术制备各类膜层，例如在屏显玻璃基板上要经过多次溅射镀膜以形成ITO玻璃，为实现平面显示产品中的某些功能，同时需要