纳米硅_单晶硅异质结二极管:制备工艺、特性解析与应用展望.docx

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纳米硅/单晶硅异质结二极管:制备工艺、特性解析与应用展望

一、引言

1.1研究背景与意义

随着现代科技的飞速发展,半导体器件在电子学、光电子学等众多领域发挥着愈发关键的作用,其性能的优劣直接影响着相关技术的进步与应用拓展。纳米硅/单晶硅异质结二极管作为一种新型的半导体器件,凭借其独特的结构和优异的性能,在半导体器件领域占据了重要地位,成为了研究的焦点之一。

纳米硅薄膜具有一系列独特的物理性质,如高电导率、良好的温度稳定性、室温可见发光以及低温下的量子共振隧穿等低维特性。这些特性使得纳米硅在新型光电子器件、量子功能器件、集成电路等领域展现出巨大的应用潜力。将纳米硅与单晶硅结合形成异质结二

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