基于位相掩模的动态近场全息光刻法：软X射线变间距光栅制备技术探究.docx

下载文档

0
0
约1.9万字
约 23页
2025-11-28 发布于上海
举报
版权申诉
保障服务

基于位相掩模的动态近场全息光刻法：软X射线变间距光栅制备技术探究.docx

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。

基于位相掩模的动态近场全息光刻法：软X射线变间距光栅制备技术探究

一、引言

1.1研究背景与意义

软X射线变间距光栅作为软X射线平焦场光谱仪的核心元件，在同步辐射、强激光等前沿科研领域中发挥着关键作用。在同步辐射光源中，软X射线变间距光栅用于光束线中的光栅单色器，通过精确的分光作用，将同步辐射光单色化，满足不同实验对特定波长软X射线的需求，在原子分子物理、凝聚态物理、材料科学等众多学科研究中不可或缺。在惯性约束聚变实验里，它能够对激光等离子体辐射的各种光谱进行精确测量，为分析和描述激光等离子体的复杂行为提供关键数据支持。随着相关科学装置性能的不断提升，对高质量软X射线变