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透明导电薄膜材料制备技术考核试卷
一、单项选择题（每题1分，共30题）
1.透明导电薄膜材料制备中，常用的金属导电材料是：
A.钛
B.银纳米线
C.金
D.铜纳米线
2.透明导电薄膜材料制备中，最常用的透明导电氧化物是：
A.氧化锌
B.氧化铁
C.氧化铜
D.氧化镍
3.透明导电薄膜制备中，以下哪种方法不属于物理气相沉积技术：
A.电子束蒸发
B.磁控溅射
C.分子束外延
D.光刻技术
4.透明导电薄膜制备中，溅射靶材的纯度一般要求达到：
A.99%
B.99.9%
C.99.99%
D.99.999%
5.透明导电薄膜制备中，以下哪种设备主要用于薄膜的厚度控制：
A.真空计
B.薄膜沉积
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