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一、半导体制造设备真空密封技术概述
半导体制造设备是现代电子工业的基石，其核心部的
制造过程对环境要求极高，尤其是在进行高纯度硅片加工、
薄膜沉积、刻蚀等关键工艺时.，需要在高真空环境下进行以
避免杂质的污染。因此，真空密封技术在半导体制造设备中
扮演着至关重要的角色。本文将详细探讨半导体制造设备中
真空密封技术的要求，分析其在半导体生产中的重要性，以
及实现高效密封的技术挑战和解决方案。
1.1真空密封技术的重要性
在半导体制造过程
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