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本篇为AI系列深度报告第八篇。回顾本系列第二篇,我们曾从材料端出发,概览性梳理了AI加速对光刻胶、冷却液、
电子特气、湿电子化学品、电子树脂等领域的潜在影响与机会。本篇选择回到“整机现场”,以一台NVIDIADGXH100
为样本,从整机到部件、从部件到材料逐层拆解,从芯片—模块—托盘—整机—数据中心五个层级回溯材料需求及其
演进方向。
投资逻辑:
在近期2025Q3-2026Q1的业绩电话会中,亚马逊、微软、谷歌、Meta等AI龙头企业均上调了资本开支指引,2026年
将会是AI硬件设施大量投放之年,利好上游相关原材料需求。我们梳理出来了整个H100数据中心的主要架构和零部
件,以材料功能类型进行重新分类出五大板块,更加全面综合的视角寻找材料端的投资机遇。
①晶圆加工与封装材料:这一环节是材料投入密度最高、技术门槛最高的环节,涉及零部件包括GPU、
NVSwitch/CPU/NIC等高性能逻辑与控制芯片;HBM/DDR等存储芯片;硅光/电光器件与光模块内的驱动与TIA芯
片;电源管理芯片与各类功率半导体器件。从产业链进展看,国内关键环节加速兑现,企业均围绕“客户导入、
小批试产、量产爬坡、扩线/扩品类”推进,订单以认证驱动为主。
②覆铜板材料:H100整机中涉及多层高速、高功率密度的PCB/载板/背板,均以覆铜板为核心基材或其延伸材料。
具体包括GPUUBB、主板、交换机主板等。主要材料包括:树脂、铜箔、玻纤布、填充材料。从产业推进情况来
看,供给端呈现“树脂高端化、铜箔高性能化、玻纤差异化”的协同升级趋势。
③导热散热材料:受益于算力需求的持续攀升与机架功率密度提升,散热材料正成为数据中心基础设施的关键增量
环节,散热主要应用在GPU核心裸晶、封装盖板、HBM堆叠存储、高速接口芯片、存储、电源等,从产业端2025
年上半年情况来看,热界面材料端围绕相变/石墨/金属与复合体系并行推进,液冷介质企业普遍扩建浸没/冷却液
产能,全氟/烃基/硅油等路线并行,面向数据中心与半导体制程冷却的合规与长期可靠性验证成为标配。
④光学材料:光学材料主要应用在光模块中,其组成部件主要为激光器芯片、光发射组件、光接收组件、探测器芯
片。2025年上半年,国内光芯片衬底与关键晶体材料进展整体稳步推进,但可独立披露的材料公司数量有限,主
要因下游光模块/IDM厂商普遍采取垂直一体化与联合开发模式,晶圆外延、键合与晶体加工高度绑定客户认证周
期,供应链外溢度低。
⑤供配电材料:当前,单颗BlackwellGPU的功耗已超过1kW,DGXB200系统(配备8个BlackwellGPU)的总热
设计功耗约为14.3kW。预计Rubin和Feynman等后续架构将在此基础上增加两倍甚至五倍。能源利用效率和低损
耗将会是配电材料未来重要方向。2025年上半年产业端稳步推进:软磁金属/非晶与纳米晶粉体迭代带动一体化
电感与芯片电感小批量落地;面向MLCC/热敏电阻的纳米级钛酸镁钙等基础粉、银粉/银浆与铜粉体系加速
;5N级超高纯铝电极材料实现国产突破,带动铝电容与相关电子浆料的安全供给。
投资建议:
围绕“认证进度+产能扩张+”三条主线布局。建议重点关注覆盖液冷介质与高性能TIM、高频高速覆铜板用
树脂/铜箔/玻纤、光刻胶、湿电子化学品、电子特气、光芯片衬底与电磁材料的优质标的。
风险提示:
下游需求不及预期风险;AI普及速度不及预期风险;原材料价格波动风险;行业竞争加剧风险;新材料研发与
进度不及预期风险;新建项目与产品验证进度不及预期风险;下游资本开支不及预期;新技术迭代风险。
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行业深度研究
内容目录
一、AI服务器带来化工材料新机遇4
1、AI服务器市场前期广阔,需求增速极快4
2、AI服务器的零部件构成详细拆分5
二、AI服务器涉及五大板块材料8
2.1晶
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