水基流延成型制备高磁导率低磁损耗NFC铁氧体片的工艺与磁学性能研究.docx

水基流延成型制备高磁导率低磁损耗NFC铁氧体片的工艺与磁学性能研究

一、引言

1.1研究背景与意义

近年来，随着科技的飞速发展，近距离无线通讯技术（NFC,NearFieldCommunication）以其便捷、高效的特点，在移动支付、门禁系统、智能设备互联等众多领域得到了广泛应用。NFC技术通过在13.56MHz的高频下实现电子设备之间的非接触式点对点识别和数据传输，极大地改变了人们的生活和工作方式。作为NFC技术的关键组件，NFC铁氧体片在保障信号传输质量、提高抗干扰能力等方面发挥着不可或缺的作用。

随着NFC技术应用场景的不断拓展，对NFC铁氧体片的性能提出