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薄膜干涉-等厚条纹第1页，共20页，星期日，2025年，2月5日n1n2n3ibaa’b’ABC当一束平行光入射到厚度不均匀的透明介质薄膜上，如图所示，两光线a和b的光程差：§17－5薄膜干涉－等厚条纹一、等厚干涉条纹点光源放在透镜的焦平面上，平行光入射薄膜AC=BC，这区域认为薄膜均匀，令厚度为e第2页，共20页，星期日，2025年，2月5日当i保持不变时，光程差仅与膜的厚度有关，凡厚度相同的地方光程差相同，从而对应同一条干涉条纹---等厚干涉条纹。第3页，共20页，星期日，2025年，2月5日为此，明纹和暗纹出现的条件为：若光线垂直入射膜面，即，光程差公式简化为：第4页，共20页，星期日，2025年，2月5日二、劈尖膜1.装置：两光学平板玻璃一端接触，另一端垫一薄纸或细丝单色、平行光垂直入射SM劈尖角第5页，共20页，星期日，2025年，2月5日2.明暗条纹条件明暗3.条纹特点（1）形态(与薄膜等厚线相同)：平行于棱边，明、暗相间条纹棱边处:e=0,θLekek+1第6页，共20页，星期日，2025年，2月5日（2）相邻明（暗）纹对应薄膜厚度差：(3)条纹宽度（两相邻暗纹间距）θLekek+1?e第7页，共20页，星期日，2025年，2月5日4.条纹变化条纹变密白光入射出现彩条空气劈尖充水条纹变密第8页，共20页，星期日，2025年，2月5日应用1:测量微小直径，厚度第9页，共20页，星期日，2025年，2月5日例1在半导体元件生产中，为了测定硅片上SiO2薄膜的厚度，将该膜的一端腐蚀成劈尖状，已知SiO2的折射率n=1.46，用波长?=5893埃的钠光照射后，观察到劈尖上出现9条暗纹，且第9条在劈尖斜坡上端点M处，Si的折射率为3.42。试求SiO2薄膜的厚度。SiSiO2OM解：由暗纹条件e=(2k+1)?/4n?=2ne=(2k+1）?/2(k=0,1,2…)知,第9条暗纹对应于k=8,代入上式得=1.72(?m)所以SiO2薄膜的厚度为1.72?m。第10页，共20页，星期日，2025年，2月5日应用2:检测工件平面的平整度第11页，共20页，星期日，2025年，2月5日例2利用空气劈尖的等厚干涉条纹可以检测工件表面存在的极小的加工纹路，在经过精密加工的工件表面上放一光学平面玻璃，使其间形成空气劈形膜，用单色光照射玻璃表面，并在显微镜下观察到干涉条纹，ab?hba?hek-1ek如图所示，试根据干涉条纹的弯曲方向，判断工件表面是凹的还是凸的；并证明凹凸深度可用下式求得：第12页，共20页，星期日，2025年，2月5日解:如果工件表面是精确的平面,等厚干涉条纹应该是等距离的平行直条纹，现在观察到的干涉条纹弯向空气膜的左端。因此，可判断工件表面是下凹的，如图所示。由图中相似直角三角形可:所以:ab?hba?hek-1ek第13页，共20页，星期日，2025年，2月5日所以:ab?hba?hek-1ek第14页，共20页，星期日，2025年，2月5日