大气压下氦氧与氩氧脉冲介质阻挡放电的频率响应及活性氧生成机制剖析.docx

大气压下氦氧与氩氧脉冲介质阻挡放电的频率响应及活性氧生成机制剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

等离子体作为物质的第四态，由大量带电粒子、中性粒子以及光子等组成，具有独特的物理和化学性质。由于其内部存在丰富的高能电子、离子和活性自由基，使得等离子体在众多领域展现出了巨大的应用潜力。在半导体制造领域，等离子体刻蚀技术能够精确地对半导体材料进行加工，实现纳米级别的图案化，从而提高芯片的集成度和性能。在环保领域，等离子体技术可用于废气处理，通过高能电子与废气中的污染物分子碰撞，使其分解为无害物质，达到净化空气的目的；在水处理方面，等离子体产生的活性氧物种能够有效降解水中的有机污染物和去除重金属