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高新科技光刻机国产化路径
引言
在全球半导体产业竞争日益激烈的背景下，光刻机作为芯片制造的“心脏设备”，其国产化水平直接关系到一国电子信息产业链的自主可控能力。一台顶尖光刻机集成了光学、精密机械、材料科学、微电子控制等数十个领域的前沿技术，被称为“人类工业文明的皇冠”。当前，全球高端光刻机市场长期被国外企业垄断，国内半导体产业在先进制程芯片制造环节面临“卡脖子”风险。探索光刻机国产化路径，不仅是突破技术封锁的关键举措，更是保障国家科技安全、推动高端制造业升级的战略需求。本文将从现状审视、技术突破、生态协同、人才政策等维度，系统梳理光刻机国产化的可行路径。
一、光刻机国产化的战略意义与现状审视
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