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光电子离子溅射工艺考核试卷及答案.docx

光电子离子溅射工艺考核试卷及答案.docx

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    光电子离子溅射工艺考核试卷及答案

    一、单项选择题（每题2分，共20分）

    1.离子溅射工艺中，用于产生高能离子束的核心部件是（）。

    A.真空腔体B.离子源C.靶材夹具D.基材加热台

    2.以下哪种离子源常用于光电子器件的精密溅射（）。

    A.电弧放电离子源B.考夫曼（Kaufman）离子源C.直流辉光放电离子源D.射频感应离子源

    3.溅射产额（SputteringYield）的定义是（）。

    A.单位时间内靶材被溅射的原子数B.每个入射离子溅射的靶材原子数C.溅射原子到达基材的比例D.溅射膜层的沉积速率

    4.为避免光

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