基础抛光-蜡层护理措施.doc

基础抛光与蜡层护理措施

一、基础抛光的核心原理与操作规范

基础抛光是通过物理摩擦去除物体表面微小瑕疵、氧化层或旧蜡残留，使基底恢复平整光滑的过程，是蜡层护理的前置关键步骤。其核心原理是利用抛光剂中的研磨颗粒（通常为氧化铝、氧化硅等）对表面进行微观切削，配合抛光工具的机械运动，逐步细化表面粗糙度，为后续蜡层附着创造理想基底。

（一）抛光剂的选择与分类

抛光剂的性能直接决定抛光效果，需根据基材特性和表面状况选择：

研磨颗粒类型：

氧化铝：硬度高（莫氏硬度9），适用于金属、石材等硬质表面的粗抛光。

氧化硅：硬度中等（莫氏硬度7），适用于漆面、塑料等较软表面的中精抛光。

硅藻土：天然矿物，研磨性温和，