全球12家半导体超纯水系统企业竞争格局及市场现状和发展趋势.pdf

全球市场研究报告

超纯水是通过从饮用水、河水或工艺水中去除杂质而制得，其纯净度极高，几乎不含除氢离子和氢氧化物以

外的任何杂质，满足包括电阻率超过18.2MΩ-cm（18.2兆欧）以及低至万亿分之一的其他参数（如选择性

污染物提取SCE和ROInfinityROI）在内的高质量标准。通过结合补充、初级处理和抛光阶段的电去离子

（EDI）技术，可以稳定地生产出超纯水。

超纯水在半导体设备的所有湿法处理操作中得到了广泛应用，包括晶圆清洗、蚀刻和抛光。更先进的技术还

利用超纯水进行浸没式光刻。因此，超纯水的纯度对半导体制造过程至关重要，因为它会直接