软X射线干涉光刻技术：原理、进展与挑战.docxVIP

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2025-12-17 发布于上海
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软X射线干涉光刻技术：原理、进展与挑战

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代，半导体制造作为现代电子产业的核心基石，其技术水平的高低直接影响着整个电子信息领域的发展进程。而光刻技术，作为半导体制造中的关键核心技术，更是扮演着举足轻重的角色，堪称半导体制造的“灵魂”。光刻技术的主要作用是将设计好的电路图案精确无误地转移到硅片等衬底材料上，就如同一位技艺精湛的画师，在微小的芯片上勾勒出复杂而精妙的电路结构，从而为后续的芯片制造工艺奠定坚实的基础。其分辨率的高低，直接决定了芯片上能够集成的晶体管数量以及芯片的性能和功耗。随着科技的不断进步，人们对芯片性能的要求也越来越高，这就