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研究报告
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2026年中国光刻掩膜版行业调研及投资分析报告
一、行业概述
1.1行业背景及发展历程
(1)光刻掩膜版作为半导体产业的关键部件,其重要性不言而喻。自20世纪70年代光刻技术诞生以来,光刻掩膜版行业经历了从传统光学光刻到深紫外光刻、极紫外光刻的演变。这一过程中,光刻掩膜版的技术水平不断提升,以满足日益精细化的半导体制造需求。特别是在近年来,随着我国半导体产业的快速发展,光刻掩膜版行业得到了政府和企业的大力支持,市场规模不断扩大。
(2)在我国,光刻掩膜版行业的发展历程可分为几个阶段。起初,国内企业以生产传统光学光刻掩膜版为主,技术水平较低,主要依
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