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离子束镀膜课件
20XX
汇报人：XX
XX有限公司
目录
01
离子束镀膜概述
02
离子束镀膜设备
03
离子束镀膜工艺
04
离子束镀膜材料
05
离子束镀膜质量控制
06
离子束镀膜案例分析
离子束镀膜概述
第一章
镀膜技术简介
应用广泛
MEMS、AR/VR等领域
PVD技术原理
利用离子束沉积材料
01
02
离子束镀膜原理
利用离子束轰击靶材，溅射原子沉积在基片上形成薄膜。
溅射沉积成膜
镀膜前用离子束清洗基片，去除杂质，增强薄膜附着力。
离子清洗基片
应用领域
AR/VR领域
提升光学元件性能，优化图像质量。
新能源电池
制备高效薄膜，优化电池性能。
离子束镀膜设备
第二章
设备组成
产生离子束流核心
离子源
聚焦离子束达高精度
电透镜
创造低气压环境
真空系统
关键部件功能
产生离子束轰击靶材
离子源
维持高真空环境
真空机组
加热冷却系统
调控样品台温度
设备操作流程
安装工件，调节参数，进行离子束镀膜。
镀膜操作
开机送电，启动抽真空泵，调整至所需真空度。
启动与抽真空
检查开关位置，确保在“关”。
开机前检查
离子束镀膜工艺
第三章
工艺流程
增设偏压装置，离子轰击基片实现镀膜。
磁控溅射镀膜
01
通入氩气，加负偏压产生辉光放电，离子轰击基片镀膜。
蒸镀基础镀膜
02
工艺参数设置
控制离子能量，影响膜层质量和结构。
离子束能量
调节离子密度，优化镀膜效率和均匀性。
离子束密度
工艺优化方法
优化离子束能量，平衡薄膜质量与沉积速率。
调整溅射能量
优化退火时间温度，降低薄膜应力，提升光学性能。
精确退火控制
离子束镀膜材料
第四章
常用镀膜材料
01
Cr及Cr合金
常用Cr、CrN等合金靶材，硬度高，摩擦系数小。
02
TiN及TiC
TiN、TiC超硬镀层，化学稳定，耐热耐磨，提升工具寿命。
材料特性分析
膜层与基片结合牢固，适用于精密元件。
高附着性
可适应不同应用需求，如导电层、抗反射膜。
成分灵活
避免热损伤，适用于敏感材料。
低温沉积
01
02
03
材料选择标准
01
透明性要求
在所需波长范围透明，无明显吸收。
02
折射率要求
膜料折射率需满足应用需求。
03
抗损伤阈值
抗损伤阈值尽可能高，保证薄膜稳定性。
离子束镀膜质量控制
第五章
质量检测方法
采用光学手段监控膜厚，实现精度控制。
光学监控法
利用石英晶体振荡频率变化检测膜厚。
石英晶振法
常见问题及解决
加强抽检，与素材厂沟通改善素材外观问题。
来料质量问题
优化制程，解决遮挡、挂印、白点等镀膜后常见问题。
镀膜后品质问题
质量保证措施
精确控制温度、压力等参数，确保镀膜质量稳定。
工艺参数优化
01
定期校准关键部件，实时监测设备状态，预防故障发生。
设备维护保养
02
离子束镀膜案例分析
第六章
典型应用案例
离子束镀膜提升AR/VR光学元件性能与稳定性。
AR/VR设备应用
离子束镀膜技术助力激光雷达，推动自动驾驶技术发展。
激光雷达制造
成功案例分享
采用离子束镀膜技术，显著提升光学器件的透光性和耐磨性。
光学器件镀膜
离子束镀膜技术优化半导体材料的表面性质，提高器件性能和稳定性。
半导体材料处理
案例中的技术亮点
国产镀膜机配博顿离子源，镀制膜层成分优异。
离子源辅助镀膜
全自研技术，突破光谱限制，实现高效镀膜。
宽光谱光控系统
XX有限公司
谢谢
THANKS
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