真空镀原理工艺技术.pptxVIP

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;;01;真空环境物理基础;物理气相沉积分类;化学气相沉积机制;02;表面清洁与脱脂处理;真空镀膜实施步骤;后处理与钝化工艺;03;;蒸发源与溅射靶配置;13.56MHz射频电源匹配网络需采用π型或L型电路,阻抗匹配误差控制在±5Ω以内;直流偏压电源(-50V至-1000V可调)通过脉冲调制(频率1-100kHz)可降低基片热负荷。对于绝缘基片,需采用不对称交流放电模式。;04;金属镀层特性分析;;;05;膜层厚度检测标准;附着力测试方法;耐蚀性评估指标;06;;光学器件功能镀膜;精密工具表面强化;THANKS

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