深紫外激光辐照下氟化钙损伤特性的多维度解析与机制探究.docx

深紫外激光辐照下氟化钙损伤特性的多维度解析与机制探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代光学领域，氟化钙（CaF?）晶体凭借其卓越的光学性能，占据着举足轻重的地位。其透光范围极宽，从真空紫外到红外波段（0.13-10μm）均有良好的透过性，低折射率（n=1.4345）和低色散特性，使其成为消色差和复消色差透镜的理想材料，被广泛应用于紫外光刻、天文观测、航测、侦察及高分辨率光学仪器中。尤其是在半导体光刻系统中，氟化钙晶体更是核心元件，直接关系到系统的稳定性和成像精度，进而影响芯片制造的工艺水平和性能。

随着半导体技术的飞速发展，对芯片集成度和性能的要求不断提高，光刻技术作为芯片制造的