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制造工艺仿真：沉积仿真_（3）.化学气相沉积(CVD)仿真.docx

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    化学气相沉积(CVD)仿真

    在集成电路制造过程中，化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition,CVD）是一种非常重要的薄膜沉积技术。CVD技术通过化学反应将气体前驱体转化为固态薄膜，广泛应用于半导体材料和器件的制造。本节将详细介绍CVD仿真的原理和内容，并通过具体例子来说明如何使用仿真软件进行CVD工艺的模拟。

    CVD的基本原理

    CVD过程中，气体前驱体在高温下发生化学反应，生成固态薄膜沉积在基底表面。这个过程包括以下几个步骤：

    前驱体气体的传输：前驱体气体从气源传输到反应室中。

    气体的扩散和吸附：前驱体气体在反应室中扩散并吸附在

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