制造工艺仿真：光刻仿真_（1）.光刻仿真的基础理论.docx

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光刻仿真的基础理论

在制造工艺仿真中，光刻仿真是一个至关重要的环节。本节将详细介绍光刻仿真的基础理论，包括光刻的基本原理、主要参数、光刻工艺流程以及仿真中的关键模型。通过本节的学习，读者将能够理解光刻仿真的核心概念和机制，为后续的仿真实践打下坚实的基础。

光刻的基本原理

光刻技术是将光敏材料（光刻胶）在特定的光照射下发生化学变化，从而在硅片上形成所需的图案。这一过程涉及到光的传播、光刻胶的化学反应以及后续的显影和刻蚀步骤。光刻的基本原理可以概括为以下几个步骤：

涂覆光刻胶：在硅片表面均匀涂覆一层光刻胶。

曝光：使用光源（如紫外线）通过掩模（mask）照射