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制造工艺仿真：光刻仿真_（3）.光刻胶的特性和选择.docx

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    光刻胶的特性和选择

    在光刻工艺中，光刻胶（Photoresist）是至关重要的材料之一。光刻胶的性能直接影响到最终图案的分辨率、保真度和可靠性。因此，理解光刻胶的特性和如何选择合适的光刻胶是进行光刻仿真和实际工艺设计的基础。本节将详细介绍光刻胶的化学特性、物理特性以及选择光刻胶时需要考虑的因素。

    光刻胶的化学特性

    1.感光机制

    光刻胶的感光机制决定了其在曝光过程中的化学变化。常用的光刻胶分为正胶（PositivePhotoresist）和负胶（NegativePhotoresist）两种类型。

    正胶

    正胶在曝光后会变得可溶于显影液，未曝光的部分则保

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