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光刻仿真中的数学模型

1.光刻仿真概述

光刻仿真是一种用于预测光刻过程中光的行为和最终图形的形成的技术。通过仿真，可以优化光刻工艺参数，减少实验次数，提高生产效率和良品率。光刻仿真涉及到多个物理和数学模型，包括光学模型、化学模型和工艺模型。本节将详细介绍光刻仿真中的数学模型，重点讨论光的传播、衍射、干涉和光化学反应等过程的数学描述。

2.光学模型

2.1光的传播模型

光的传播模型主要用于描述光在光刻过程中的传播路径。在光刻中，光通过掩模（mask）照射到光刻胶（photoresist）上，因此需要考虑光在不同介质中的传播特性。常用的光传播模型包括波