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扫描轨迹下的分段迭代补偿策略魏凯,等

扫描轨迹下的分段迭代补偿策略

SegmentedlterativeCompensationStrategyunderScanningTrack

魏凯范文超陈兴林张广莹

(哈尔滨工业大学航天学院,黑龙江哈尔滨150001)

摘要:为提高光刻机掩模台系统的步进扫描品质,进而提高硅片成品质量,提出一种基于S曲线的轨迹规划。对迭代学习控制进

行了研究,并针对普通全局迭代算法可能造成系统在特定环节恶化的局限性,采用分段迭代补偿策略,对迭代学习控制器进行分段优

化。仿真表明,分段迭代学习控制满足系统的实际需求,可以应用在掩模台系统的调试中。

关键词:光刻机掩模台步进扫描S曲线分段迭代学习控制

中图分类号:TP273+.3文献标志码:ADOI:10.16086/j.cnki.issn1000-0380.201505005

Abstract:Toimprovethequalityofstepscanofthereticlestagesystemoflithography,thusenhancethequalityofthefinishedproductsof

siliconwafers,thetrajectoryplanningbasedonS-curveisproposed.Theiterativelearningcontrolisstudied,andinaccordancewiththe

limitationsunderspecificpartofthesystembecomesdeteriorationinthegeneralglobaliterationalgorithm,theiterativelearningcontrolleris

optimizedinsegmentallybyadoptingsegmentediterativecompensationstrategy.Thesimulationindicatesthatiterativelearningcontrolsatisfies

practicaldemandsforthesystem;itcanbeusedincommissioningofthereticlestagesystem.

Keywords:LithographyReticlestageStepscanS-curveSegmentediterativelearningcontrol

0引言1扫描光刻系统轨迹规划

在对硅片的处理过程中,光刻机掩模台系统主要在步进扫描的过程中,硅片台在一个曝光域的曝

采用步进扫描的方式进行运动。其运动的品质与成品光完成后,要步进到下一个曝光区域,重复扫描曝光的

的质量息息相关,而步进的速度又决定了系统的产率。过程。300mm的标准晶圆上通常分布着80~100块

除了系统本身的高性能之外,轨迹规划也起到不容忽曝光小块(Die),曝光小块的大小与曝光狭缝和扫描

视的作用。合理的轨迹规划不仅能减小系统运动过程的长度有关,而曝光狭缝的大小又取决于投影物镜的

[1-2]

中的机械冲击,还能使系统的运动轨迹更加平滑。视场。扫描的过程伴随着动态曝光的过程,从一个曝

而对于迭代学习控制而言,单纯的在光刻机的运动轨光小块步进到另一个曝光小块的过程称为Die-to-Die

迹中使用迭代学习确实能起到一定的作用,但有时却[7]